Nickelpulver für anspruchsvolle Anwendungen

Wir sind die Referenz in der Entwicklung und Produktion von Nickelpulvern und Nickellegierungen, insbesondere von Nickellegierungen und Hartloten. Unsere Exzellenz zeigt sich durch den Einsatz fortschrittlicher Herstellungstechnologien wie dem Gasatomisierungssystem in einer Vakuumumgebung.

Die aus diesem Prozess resultierenden Nickelpulver und Hartlote zeichnen sich durch fein verteilte Partikel und eine präzise kontrollierte chemische Zusammensetzung aus. Diese Herstellungsmethodik ermöglicht die Herstellung von Nickelpulvern mit überlegenen Eigenschaften und Hartloten mit optimalen Merkmalen für die spezifischen Anwendungen, die von den anspruchsvollsten Industriebereichen gefordert werden.

Die durch das Gasatomisierungssystem in einer Vakuumumgebung hergestellten Nickelpulver werden häufig in Lötprozessen zur Herstellung von metallischen Verbindungen eingesetzt. Diese Methode bietet eine gleichmäßige Korngrößenverteilung und eine effiziente Kontaktfläche, was zur Bildung fester und widerstandsfähiger Verbindungen beiträgt.

Die Nickelbasis-Hartlote, die aus unserem fortschrittlichen Herstellungsprozess resultieren, finden Anwendung in einer Vielzahl von industriellen Anwendungen. Dazu gehören die Montage von elektronischen Bauteilen, die Herstellung von medizinischen Geräten und die Produktion von Komponenten für die Luft- und Raumfahrtindustrie. Die Korrosionsbeständigkeit und die Kompatibilität mit einer Vielzahl von Materialien machen unsere Nickelbasis-Hartlote zur idealen Wahl für Anwendungen, die hohe und dauerhafte Leistungen erfordern.

Laden Sie unseren Katalog herunter
NiP 16 EF

Legierung: Ni Rest.% - P 16%

Gasatomisiert, unregelmäßige

Scheinbare Dichte: 2,8-3,2 gr/cm3

Korngröße: < 75 Mikrometer

NiP 20 EF

Legierung: Ni Rest.% - P 20%

Gasatomisiert, unregelmäßige

Scheinbare Dichte: 2,8- 3,2 gr/cm3

Korngröße: < 75 micron

NiSi 35 EF

Legierung: Ni Rest.% - Si 35%

Gasatomisiert, unregelmäßige

Scheinbare Dichte: 2,8- 3,2 gr/cm3

Korngröße: < 75 micron

NiB 15 EF

Legierung: Ni Rest.% - B 15%

Gasatomisiert, unregelmäßige

Scheinbare Dichte: 3,6- 4,0 gr/cm3

Korngröße: < 106 micron

EL5560H

Legierung: Ni Rest.% - Cr 15% - B 3,1% - Si 4,5% - Fe 4,2%

Gasatomisiert, unregelmäßige

Scheinbare Dichte: 5,5- 5,7 gr/cm3

Hardness: 55 - 60 HRC

EL4550H

Legierung: Ni Rest.% - Cr 12% - B 2,5% - Si 3,3% - Fe 2,5%

Gasatomisiert, unregelmäßige

Scheinbare Dichte: 5,4- 5,6 gr/cm3

Hardness: 45 - 50 HRC

EL 600

ISO17672: Ni 600

ISO3677: B-Ni74CrFeSiB-980/1070

  • Produktspezifikationen
  • EL 610

    ISO17672: Ni 610

    ISO3677: B-Ni74CrFeSiB-980/1070

  • Produktspezifikationen
  • EL 612

    ISO17672: Ni 612

    ISO3677: B-Ni81CrB-1055

  • Produktspezifikationen
  • EL 620

    ISO17672: Ni 620

    ISO3677: B-Ni82CrSiBFe-970/1000

  • Produktspezifikationen
  • EL 630

    ISO17672: Ni 630

    ISO3677: B-Ni92SiB-980/1040

  • Produktspezifikationen
  • EL 631

    ISO17672: Ni 631

    ISO3677: B-Ni95SiB-980/1070

  • Produktspezifikationen
  • EL 650

    ISO17672: Ni 650

    ISO3677: B-Ni71CrSi-1080/1135

  • Produktspezifikationen
  • EL 655

    ISO17672: Ni 655

    ISO3677: B-Ni68CrSiP-960/1079

  • Produktspezifikationen
  • EL 660

    ISO17672: Ni 660

    ISO3677: B-Ni73CrSiB-1065/1150

  • Produktspezifikationen
  • EL 661

    ISO17672: Ni 661

    ISO3677: B-Ni77CrSiBFe-1030/1125

  • Produktspezifikationen
  • EL 700

    ISO17672: Ni 700

    ISO3677: B-Ni89P-875

  • Produktspezifikationen
  • EL 710

    ISO17672: Ni 710

    ISO3677: B-Ni76CrP-890

  • Produktspezifikationen
  • EL 720

    ISO17672: Ni 720

    ISO3677: B-Ni65CrP-880/950

  • Produktspezifikationen